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[新资讯] Intel EUV极紫外光刻设备进厂:冲刺“4nm”工艺

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ShuoShuRen 发表于 2022-1-20 15:21:27 | 显示全部楼层 |阅读模式

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  位于爱尔兰莱克斯利普(Leixlip)、投资70亿美元的Intel Fab 34晶圆厂迎来重要时刻:一台光刻胶显影设备(lithography resist track)缓缓进入工厂,这也是该厂的第一台巨型芯片制造工具。

  该设备来自Intel美国俄勒冈州工厂,搭乘飞机越过大西洋,来到了爱尔兰。

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  这台设备将与EUV极紫外扫描仪搭档,首先为硅晶圆覆上精密的涂层,然后进入EUV扫描仪,进行曝光,接着晶圆回到光刻设备,再进行一系列的高精密光显影、清理操作。

  一座典型的晶圆厂包含大约1200台先进制造设备,大部分价值都在百元美元级别。

  Intel Fab 34晶圆厂2019年动工建设,计划2023年正式投产,将会把Intel在爱尔兰的产能翻一番,并为未来生产Intel 4工艺铺平道路——严格来说是Intel 7nm,但是官方重新命名,认为它可以媲美行业4nm水平。

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  Alder Lake 12代酷睿、Raptor Lake 13代酷睿都是Intel 7工艺(10nm ESF),Meteor Lake 14代酷睿和代号Granite Rapids的下下代至强都将用上Intel 4工艺。

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  官方透露,新工艺研发进展顺利,芯片测试已经完美通过,SRAM、逻辑单元、模拟单元都符合规范,去年第二季度还早早完成了Meteor Lake计算单元模块的流片。

  Intel现阶段正在全球建设、升级晶圆厂,除了爱尔兰还有美国本土的亚利桑那州、新墨西哥州、俄勒冈州,以及马来西亚,投资上百亿美元,很快还会宣布在欧洲、美国的更多晶圆厂建设计划。

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fudashuai 发表于 2022-1-20 22:27:14 | 显示全部楼层

活跃 25502| 技术 0| 互助 0| 钻石 0

中国何时能够自产光刻设备?

点评

那个也不是美国产的吧,其中有几个器件是美国的罢了,中国 还早得很,euv光刻机中没有任何关键东西是中国的,基本从零开始整。。。  详情 回复 发表于 2022-1-22 13:29
FunMEMZ 发表于 2022-1-21 21:48:53 | 显示全部楼层

活跃 6729| 技术 5| 互助 8| 钻石 100

严格来说是Intel 7nm,但是官方重新命名,认为它可以媲美行业4nm水平。

真就改个名呗(Win11 21H2:这我熟)
yinbinly 发表于 2022-1-22 09:18:55 | 显示全部楼层

活跃 82570| 技术 36| 互助 67| 钻石 2786

intel:7nm=4nm
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xiezhongrong 发表于 2022-1-22 13:29:49 | 显示全部楼层

活跃 31356| 技术 0| 互助 2| 钻石 0

fudashuai 发表于 2022-1-20 22:27
中国何时能够自产光刻设备?

那个也不是美国产的吧,其中有几个器件是美国的罢了,中国
还早得很,euv光刻机中没有任何关键东西是中国的,基本从零开始整。。。
铿锵玫瑰 发表于 2022-1-28 15:11:38 | 显示全部楼层

活跃 1041| 技术 0| 互助 0| 钻石 0

期待我国能够自产光刻设备。
yjhsword 发表于 2022-2-2 17:06:15 | 显示全部楼层

活跃 10| 技术 0| 互助 0| 钻石 0

感谢楼主 好好学习  分享给大家
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